复合式/溅镀+化学气相沉积系统
来源:本站 时间:2024-08-16
Description:
●6 x Chambers : Loading,Transfer,Sputter,3xCVD
●自动传输及制程控制
●载台:6”Wafer或其他尺寸
●气体 :O2，He，H2，SiH4，TMP，TMB，N2，Ar ...etc.,
●载台加热:400℃
复合式/溅镀+化学气相沉积系统
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