微波等离子体辅助原子层沉积系统(MPALD)
来源:本站 时间:2025-05-22

本项技术核心为自主设计的谐振导波腔,利用2.45GHz微波电源激发高密度、均匀的低温等离子体,实现了大尺寸晶圆条件下薄膜厚度和界面质量的精准可控,能够有效降低器件制造过程中界面缺陷及颗粒污染等问题。目前,本系统已与集美大学、厦门理工学院、厦门大学、台湾暨南大学等高校深入合作,高k栅介质、逻辑芯片超薄阻挡层等前沿工艺研究中获得良好应用反馈。
Description:
●微波频率:2.45±0.025 GHz
●微波功率:≥3KW连续可调
●可实现<+/-3%的均匀沉积
●气体:SiH4,NH3, N₂0, Ar, N₂, CF4, O2. . .
●极限压力:≤1X10-3 Torr
●尺寸:8英寸晶圆
●用途:SiO2,SixNx. ..etc.,
●定制化生产
微波等离子体辅助原子层沉积系统(MPALD)