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真空镀膜系统

微波等离子体辅助原子层沉积系统(MPALD)

来源:本站     时间:2025-05-22    
厦门毅睿科技有限公司(厦门芯壹方)自主研发生产的面向7nm以下先进工艺的微波等离子体辅助原子层沉积系统(MPALD),可实现<±3%的均匀沉积,微波频率:2.45±0.025 GHz,微波功率:≥3KW连续可调。通过自主研发攻克了“卡脖子”难题,不仅降低了对进口设备的依赖,更通过自主可控的技术体系为半导体产业链安全提供保障。

本项技术核心为自主设计的谐振导波腔,利用2.45GHz微波电源激发高密度、均匀的低温等离子体,实现了大尺寸晶圆条件下薄膜厚度和界面质量的精准可控,能够有效降低器件制造过程中界面缺陷及颗粒污染等问题。目前,本系统已与集美大学、厦门理工学院、厦门大学、台湾暨南大学等高校深入合作,高k栅介质、逻辑芯片超薄阻挡层等前沿工艺研究中获得良好应用反馈。





Description:

●微波频率:2.45±0.025 GHz

微波功率:≥3KW连续可调

可实现<+/-3%的均匀沉积

气体:SiH4,NH3, N₂0, Ar, N₂, CF4, O2. . .

极限压力:≤1X10-3 Torr

尺寸:8英寸晶圆

用途:SiO2,SixNx. ..etc.,

定制化生产


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